Please use this identifier to cite or link to this item:
http://dspace.nuph.edu.ua/handle/123456789/35364
Title: | Обгрунтування складу сонцезахисного крему для обличчя |
Other Titles: | Rationale for the composition of sunscreen for the face |
Authors: | Пономаренко, Є. С. |
Keywords: | кваліфікаційна робота;кафедра промислової технологiї лiкiв та косметичних засобів;факультет медико-фармацевтичних технологій;освітня програма Технології парфумерно-косметичних засобів;косметичний засіб;крем;захист;ультрафіолет;сонцезахисний фільтр;cosmetic produc;cream;protection;ultraviolet;sunscreen filter;КР-2025 |
Issue Date: | Jun-2025 |
Publisher: | НФаУ |
Bibliographic description (Ukraine): | Пономаренко, Є. С. Обгрунтування складу сонцезахисного крему для обличчя : кваліфікаційна робота / наук. керівник О. Рубан. - Харків, 2025. - 47 с. |
Abstract: | Кваліфікаційна робота містить 46 сторінок, 5 таблиць, 6 рисунків,
список літератури з 26 найменувань.
У роботі наведено результати розробки складу та технології
сонцезахисного крему для обличчя. Обґрунтовано склад активних та
допоміжних речовин. За допомогою реологічних досліджень обрано
емульгатор та його вміст у складі крему косметичного. Запропоновано
промислову технології отримання сонцезахисного крему. Qualification work contains 46 pages, 5 tables, 6 figures, bibliography of 26 titles. The work presents the results of the development of the composition and technology of sunscreen for the face. The composition of active and auxiliary substances is substantiated. Using rheological studies, the emulsifier and its content in the composition of the cosmetic cream were selected. An industrial technology for obtaining sunscreen is proposed. |
URI: | http://dspace.nuph.edu.ua/handle/123456789/35364 |
Appears in Collections: | Кваліфікаційні роботи здобувачів вищої освіти кафедри промислової технологiї лiкiв та косметичних засобів |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
Кваліфікаційна робота Пономаренко Є..pdf | 932,3 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.